在線量產型磁控濺射鍍膜系統

在線量產型磁控濺射鍍膜系統

儀器簡介：

在線量產型磁控濺射鍍膜系統
·  高轉換效率
· 大容量吸收，電池可靠性長達10年
· 抗輻射
· 低成本的基片和復合基片

技術參數：

1. 真空腔體模塊
a. 主沉積腔, 1 SET
- 形狀 & 尺寸 : 前開門式 (Φ500 x H600 mm)
- 蒸發源口徑 : effusion cell 5 ea (CF4.5" 4ea, CF6" 1ea)
- 接口 : 可視窗 (帶擋板), 泵抽氣口, 前加熱器,表頭, 排空口, 基片擋板,  T/C 口, 樣品轉移口,高溫計,備用 E-Cell port (CF4.5" 2ea), T/M 傳感器
- 外部水冷
-  內部保護蓋
b. 樣品轉移腔
- 腔體: 前開門式(Φ150 x H200 mm)
- 基片夾具:  可夾100X100 mm2 基片
- 磁力桿傳送基片
- 接口: 泵,排空,表頭,可視窗,閥,備用etc.
- MFC(Ar 10,000 sccm) 和花傘噴淋吹掃

c. 基片樣品臺模塊, 1 SET
- 基片尺寸 : Φ150 mm (100X100 mm2 x 1片)
- 基片加熱模塊 : SiC加熱器 , 最高 700 ℃
- 基片加熱功率 (40A x 60V)
- 溫度顯示,溫度指示
- 前加熱器模塊
- 包括擋板
- Z軸移動, 轉動

2. 真空模塊
a. 真空泵
 Rotary泵: 600 l/min,用于粗抽主樣品沉積腔
 冷凝泵, N2 2400 l/sec,用于高真空和沉積工作
b.  真空閥和泵的管道
 圓形閘板閥, 10 英寸,用于冷凝泵
 圓形閘板閥, 10 英寸,用于樣品轉移腔
 右角閥
 粗抽泵,用于樣品轉移腔
 高真空閥
 排空閥  
c. 真空測試
離子規,用于主腔體高真空測試 , 1 set
 Convection計, 用于主腔體粗抽低真空測試, 2 set
d. 膜厚監控系統
 石英振蕩型沉積控制器,6通道,(CYGNUS controller)
 共沉積模式監控 : 可測試 4個蒸發源
 共沉積速率模式監控 : 可測試 4個蒸發源
 單個晶體傳感器: 4 set
 測試分辨率: 0.5 ?
 厚度顯示范圍: 0 to 999.9 k?
 厚度準確度: 0.5%
 屏幕參數顯示

3. 蒸發源模塊
a. EFFUSION CELL SOURCE & 電源 : 4 SET
- 蒸發源 : Effusion cell ( for Cu, In,Ga,Se)

4. 系統控制模塊
- 手動過程控制及可升級至自動過程控制
- 硬件: PLC, PC
- 安全自鎖, 用于電路,壓縮氣體,冷卻水循環,泵及閥,, etc
- 基片溫度顯示: 曲線圖和高溫計, etc.
- 系統狀態顯示屏

5. 主機框架及控制柜
- 整體機器被可移動的顯示屏罩著
- 框架下有可調節支腿- 電源 (壓力規, 蒸發源的電源etc.)
- 19" 支架用于控制屏及控制器

主要特點：

CIGS 沉積系統的主要特點：
1. 沉積厚度: 可達幾個微米up to several micron
2. 沉積材料: CIGS(Cu, In, Ga, Se), etc..
3. 膜厚均勻性: ≤ ± 5 % 在 100X100 mm2 基片上
4. 基片: Soda-lime glass, SUS foil, etc..
5. 沉積模式: 在基片加熱過程中，使用 Effusion cell 蒸鍍
6. 產量: 100X100 mm2 x 1sheet/ batch, 手動
7. 真空度: 極限真空 3 x 10 -7 Torr
8. 真空腔: 樣品轉移腔和主沉積腔
9. 控制系統: 基于 PLC and PC上的手動操作
10. 目的: 研究及發展（R&D）