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多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發、電子束蒸發) 多種薄膜沉積設備，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發、熱蒸發等。

脈沖激光外延制備鍍膜系統 脈沖激光外延制備系統憑借著優異的性能, PVD公司生產的脈沖激光沉積分子束外延系統在國內外擁有較多用戶，為眾多老師開啟薄膜外延制備的新篇章，用分子束外延進行半導體材料、ZnO、GaN、SiGe和金屬/氧化物外延生長。

該臺式原子層沉積鍍膜系統擁有達到或超過市場上其他品牌的功能，同時易于使用和維護 - 成本低于當今市場上的價格 腔室溫度：室溫到325°C±1°C; 前軀體溫度從室溫到 150 °C ± 2 °C（帶加熱夾套） 市場上最小的占地面積（2.5 平方英尺），臺式 安裝和潔凈室兼容 簡單的系統維護和實用程序和 市場上的前體使用

磁控濺射鍍膜機具有射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射；304不銹鋼圓柱形腔體，標準直徑有18英寸和24英寸，手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片，高真空背景傳遞，可加熱，冷卻，偏壓，旋轉。

脈沖激光沉積鍍膜設備 激光在真空腔內照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩定狀態的組成和構造的人工合成新材料。

狹縫擠出式涂布鍍膜機 粘度范圍：1-20000cps，應用襯底：玻璃， PET聚酯， 紙張，幅寬：90mm, 120mm, 300mm。

微型磁控濺射鍍膜設備 這款來自美國的微型磁控濺射系統滿足研究所和研發部門對真空薄膜沉積的性能要求，占用空間小，具有超高的性價比，可以向客戶提供優質的服務。

超高真空磁控濺射鍍膜系統 美國專業的制造商PVD公司是一家在磁控濺射沉積，電子束蒸發沉積，脈沖激光沉積等領域有著20年制造經驗。