激光直寫技術的研究與進展
更新時間：2023-03-06 點擊次數：1153
激光直寫技術是一種無需掩模、適用面廣、性價比高的微納米加工手段，目前已經廣泛應用于微機電系統、掩模板、微流控、微納光學器件、超材料等微納米制造領域。隨著納米技術的飛速發展，器件和結構變得越來越小，面對的場景也越來越復雜多樣。
為了滿足這些新的發展需求，新一代激光直寫系統采用了激光與物質非線性相互作用的新原理，在技術上實現了兩個突破：
1、突破了衍射極限的限制，實現了超衍射加工；
2、打破了受體材料僅能使用有機光刻膠的限制，實現了在各種材料也包括有機光刻膠上的激光直寫。
這些突破賦予了激光直寫技術許多新的內涵，極大地拓寬了激光直寫的應用場景。
大量的實驗研究已經證明了激光直寫系統的可靠性，同時證明了此系統可利用多樣化的加工反應機理，如氧化、切削、凝固、熔化、光化學反應、引導自組裝等。
事實上，千萬種材料，每一種都可以和新一代激光直寫結合，寫出自己的故事，加之不同的相互作用原理，為使用激光直寫探索前沿提供了許多新的可能和一個巨大的舞臺。
工欲善其事，必先利其器，新一代激光加工系統已經開始服務于多個領域的研究機構并參與到其前沿研究課題中，為研究人員在探索新的微納米效應，尋找獨特的制造技術、構建新型納米器件等領域提供了獨特、靈活的制造加工技術手段。
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